產品描述
產品特性
適用各類有機/無機墨水，包括聚合物、樹脂、像素點、量子點、金屬納米粒子墨水、納米銀線、鹽溶液、光刻膠、碳納米管、石墨烯、DNA、蛋白質等。
產品優勢
基本圖案打印
電流體噴印各種二維結構
制備微納單元
制造微米~亞微米級RGB/量子點圖案
柔性封裝薄膜
制備柔性OLED封裝薄膜
光敏樹脂材料
制備微米級光透鏡
直寫波紋結構
直接制備PVDF二級波紋纖維，器件拉伸能力提升至320%
電流體光刻技術
可電流體打印光刻膠溶液，制備微納米掩模圖案，兼容光刻圖案化工藝
光刻膠圖案
掩膜制備微米網絡電極
薄膜電容器件
電流體霧化石墨烯薄膜，制備薄膜電容器件
產品參數
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規格名稱 |
HEIJ-H：點/線/薄膜精密制造 |
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設備特點 |
一體機、高精度 |
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供墨系統 |
氣壓供墨@1kPa?（可選配流量泵） |
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高壓電源 |
±5000V@直流/方波 |
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打印頻率 |
1000Hz |
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打印基臺 |
210×210mm2，真空吸附、加熱~100℃ |
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打印速度 |
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定位/重復精度 |
±5μm / ±3μm |
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視覺系統 |
觀測相機+定位相機 |
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圖形格式 |
支持矢量圖、位圖，內置基本圖元 |
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工藝指標 |
點噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬 <1μm、制膜最小厚度 ~50nm |
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